電子元件生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備

　　一、純凈水設(shè)備廠家電子元件生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備概述

　　電子元件生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備主要應(yīng)用在電子元件生產(chǎn)中的重要性日漸突出，設(shè)備的出水水質(zhì)已經(jīng)成為影響電子元件質(zhì)量和生產(chǎn)成本的重要因素，因此對(duì)于電子行業(yè)的用水水質(zhì)越來(lái)越高。電子元件生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備正是應(yīng)用于該行業(yè)，設(shè)備采用*的制水技術(shù)，*設(shè)備的出水水質(zhì)符合行業(yè)用水需求。

　　二、電子元件生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備技術(shù)參數(shù)

　　三、電子元件生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備工藝

　　1、采用離子交換方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→*級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　3、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　四、電子元件生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備特點(diǎn)

　　200L-1000L/H產(chǎn)水量的中型超純水設(shè)備預(yù)處理和除鹽系統(tǒng)所有管件、配件采用衛(wèi)生級(jí)不銹鋼，堅(jiān)固耐用，抗腐蝕。

　　主要部件優(yōu)良的產(chǎn)水水質(zhì)。

　　超純水設(shè)備的電路和水路徹底分離，避免因內(nèi)部潮濕、漏水引起的電路老化損壞。

　　采用微電腦控制以及參數(shù)修改、提示功能，運(yùn)行狀態(tài)和產(chǎn)水水質(zhì)在線顯示，操作簡(jiǎn)單、快捷。

　　采用單雙級(jí)RO反滲透+EDI連續(xù)電除鹽+拋光混床工藝，出水電阻率可達(dá)18.25MΩ.cm，連續(xù)產(chǎn)水性能極好。